東京工業大学　資源化学研究所　中川　勝　准教授

『精密化学めっきから、異方導電性材料、ナノインプリントまで』
～異種材料の界面制御による先端機能材料の創製とその応用～

　金属配線基板やシリコン半導体などにおける微細加工技術の日進月歩は目ざましい。例えば配線基板について1μｍレベルの配線技術が、またシリコン半導体では数10nm線幅のデバイスが研究されている。しかし、デバイス作製のコスト高と量産化を考えると克服すべき課題は多い。演者は、分子集合体を鋳型に利用した新材料の創製を、分子レベルでの異種材料界面の精密設計の観点から行っています。本講演では、「ナノ薄膜を鋳型とした無電解めっきによる選択的金属化」、「疎水性金ナノ粒子とそのゲル浸透型転写技術」、「磁性導電性フィラーと光硬化型異方導電性シート」などについての概要とともに、さらなる超微細精密加工を実現する切り札として最近注目されている「ナノインプリント技術」の現状について紹介する。特に、熱ナノインプリント＆ウエットエッチング法を取り上げ、光反応性単分子膜が金属薄膜の微細加工に与える効果を中心に詳しく説明する。

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